Gwan-Ha Kim: шукати на сайті Z-Library

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (34)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

1

Threshold voltage shift of submicron p-channel MOSFET due to Si surface damage from plasma etching process

Gwan-Ha Kim, Young-Rog Kang, Whan-Jun Kim, Sang-Yong Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Thin Solid Films

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 750 KB

english, 2007

2

Selective etching of SiO2 over Si3N4 in a C5F8/O2/Ar plasma

Gwan-Ha Kim, Seung-Bum Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Microelectronic Engineering

Рік:

2006

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.10 MB

english, 2006

3

Temperature dependence on dry etching of Al[sub 2]O[sub 3] thin films in BCl[sub 3]/Cl[sub 2]/Ar plasma

Yang, Xue, Kim, Dong-Pyo, Um, Doo-Seung, Kim, Gwan-Ha, Kim, Chang-Il

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 920 KB

english, 2009

4

Inductively coupled Cl2/N2 plasma: Experimental investigation and modeling

Gwan-Ha Kim, A.M. Efremov, Dong-Pyo Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Microelectronic Engineering

Рік:

2005

Мова:

english

Файл:

PDF, 191 KB

english, 2005

5

Selective etching of (Ba,Sr)TiO3 thin films over silicon in an inductively coupled plasma

Gwan-Ha Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Microelectronic Engineering

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 794 KB

english, 2007

6

Etch damage evaluation on (Bi4−xLax)Ti3O12 thin films during the etch process using inductively coupled plasma sources

Jong-Gyu Kim, Gwan-Ha Kim, Kyoung-Tae Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Materials Science in Semiconductor Processing

Рік:

2006

Мова:

english

Файл:

PDF, 632 KB

english, 2006

7

Characteristics of Nickel-doped Zinc Oxide thin films prepared by sol–gel method

Kyoung-Tae Kim, Gwan-Ha Kim, Jong-Chang Woo, Chang-Il Kim

Журнал:

Surface and Coatings Technology

Рік:

2008

Мова:

english

Файл:

PDF, 789 KB

english, 2008

8

Etching characteristic and mechanism of BST thin films using inductively coupled Cl2/Ar plasma with additive CF4 gas

Gwan-Ha Kim, Kyoung-Tae Kim, Dong-Pyo Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Thin Solid Films

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 121 KB

english, 2004

9

Plasma etching of (Ba,Sr)TiO3 thin films using inductively coupled Cl2/Ar and BCl3/Cl2/Ar plasma

Gwan-Ha Kim, Kyoung-Tae Kim, Dong-Pyo Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Thin Solid Films

Рік:

2005

Мова:

english

Файл:

PDF, 378 KB

english, 2005

10

Dry etching of magnesium oxide thin films by using inductively coupled plasma for buffer layer of MFIS structure

Gwan-Ha Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Thin Solid Films

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 782 KB

english, 2007

11

Self-consistent global model for inductively coupled Cl2 plasma: Comparison with experimental data and application for the etch process analysis

A.M. Efremov, Gwan-Ha Kim, Jong-Gyu Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Thin Solid Films

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 255 KB

english, 2007

12

Effect of LaNiO3 electrode on microstructural and ferroelectric properties of Bi3.25Eu0.75Ti3O12 thin films

Kyoung-Tae Kim, Chang-Il Kim, Jong-Gyu Kim, Gwan-Ha Kim

Журнал:

Thin Solid Films

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 611 KB

english, 2007

13

A study on dry etching for profile and selectivity of ZrO2 thin films over Si by using high density plasma

Jong-Chang Woo, Sang-Gi Kim, Jin-Gun Koo, Gwan-Ha Kim, Dong-Pyo Kim, Chong-Hee Yu, Jin-Yeong Kang, Chang-IL Kim

Журнал:

Thin Solid Films

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 986 KB

english, 2009

14

Etching mechanism of (Pb,Sr)TiO3 thin films for DRAM application using Cl2/Ar inductively coupled plasma

Gwan-Ha Kim, Kyoung-Tae Kim, Dong-Pyo Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 213 KB

english, 2004

15

Effect of gas mixing ratio on MgO etch behaviour in inductively coupled BCl3/Ar plasma

Gwan-ha Kim, Chang-Il Kim, Alexander M. Efremov

Журнал:

Рік:

2005

Мова:

english

Файл:

PDF, 271 KB

english, 2005

16

Applicability of self-consistent global model for characterization of inductively coupled Cl2 plasma

A.M. Efremov, Gwan-Ha Kim, Jong-Gyu Kim, A.V. Bogomolov, Chang-Il Kim

Журнал:

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 236 KB

english, 2007

17

On the applicability of self-consistent global model for the characterization of Cl2/Ar inductively coupled plasma

A.M. Efremov, Gwan-Ha Kim, Jong-Gyu Kim, A.V. Bogomolov, Chang-Il Kim

Журнал:

Microelectronic Engineering

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 317 KB

english, 2007

18

Dry etching of LaNiO3 thin films using inductively coupled plasma

Gwan-Ha Kim, Dong-Pyo Kim, Kyoung-Tae Kim, Chang-Il Kim, Cheol-In Lee, Tae-Hyung Kim

Журнал:

Thin Solid Films

Рік:

2006

Мова:

english

Файл:

PDF, 226 KB

english, 2006

19

(Pb,Sr)TiO3 thin films etching characteristics using inductively coupled plasma

Gwan-Ha Kim, Kyoung-Tae Kim, Dong-Pyo Kim, Chang-Il Kim

Журнал:

Thin Solid Films

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 114 KB

english, 2004

20

Controlling temperature dependence of silicon waveguide using slot structure

Lee, Jong-Moo, Kim, Duk-Jun, Kim, Gwan-Ha, Kwon, O-Kyun, Kim, Kap-Joong, Kim, Gyungock

Журнал:

Рік:

2008

Мова:

english

Файл:

PDF, 913 KB

english, 2008

21

Etching Properties of HfO 2 Thin Films in Cl 2 /BCl 3 /Ar Plasma

Kim, Dong-Pyo, Kim, Gwan-Ha, Woo, Jong-Chang, Yang, Xue, Um, Doo-Seung, Kim, Chang-Il

Журнал:

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.48 MB

english, 2009

22

Synthesis and purification of single-walled carbon nanotubes by methane decomposition over iron-supported catalysts

Kim, Jong-Sik, Kim, Gwan-Ha, Kim, Chang-Il

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films

Рік:

2006

Мова:

english

Файл:

PDF, 593 KB

english, 2006

23

Dielectric Properties of (Na, K)NbO 3 Thin Films for Tunable Microwave Device Application

Kim, Kyoung-Tae, Kim, Gwan-Ha, Woo, Jong-Chang, Kim, Chang-Il

Журнал:

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.24 MB

english, 2007

24

The Etching Properties of Al 2 O 3 Thin Films in BCl 3 /Cl 2 /Ar Plasma

Xue-Yang,, Kim, Dong-Pyo, Kim, Gwan-Ha, Woo, Jong-Chang, Um, Doo-Seung, Kim, Chang-Il

Журнал:

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.64 MB

english, 2009

25

Etch characteristics of (Pb,Sr)TiO[sub 3] thin films using CF[sub 4]/Ar inductively coupled plasma

Kim, Gwan-Ha, Kim, Kyoung-Tae, Kim, Dong-Pyo, Kim, Chang-Il

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 441 KB

english, 2003

26

Dry etching of (Pb,Sr)TiO[sub 3] thin films using inductively coupled plasma

Kim, Gwan-Ha, Kim, Jong-Sik, Kim, Kyoung-Tae, Kim, Dong-Pyo, Kim, Chang-Il

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films

Рік:

2005

Мова:

english

Файл:

PDF, 421 KB

english, 2005

27

Dry etching of (Ba,Sr)TiO[sub 3] thin films using an inductively coupled plasma

Kim, Gwan-Ha, Kim, Kyoung-Tae, Kim, Chang-II

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films

Рік:

2005

Мова:

english

Файл:

PDF, 428 KB

english, 2005

28

Effect of Cl[sub 2]∕Ar gas mixing ratio on (Pb,Sr)TiO[sub 3] thin film etching behavior in inductively coupled plasma

Kim, Gwan-Ha, Kim, Chang-Il

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films

Рік:

2006

Мова:

english

Файл:

PDF, 621 KB

english, 2006

29

Improving the Etch Selectivity of ZrO 2 Thin Films over Si by Using High Density Plasma

Woo, Jong-Chang, Kim, Gwan-Ha, Kim, Dong-Pyo, Um, Doo-Seung, Kim, Chang-Il

Журнал:

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 3.07 MB

english, 2009

30

Dry Etching Mechanisms of ZrO 2 Thin Films in BCl 3 /Cl 2 /Ar Plasma

Lee, Cheol-In, Kim, Gwan-Ha, Kim, Dong-Pyo, Woo, Jong-Chang, Kim, Chang-Il

Журнал:

Рік:

2009

Мова:

english

Файл:

PDF, 3.49 MB

english, 2009

31

Etching characteristics of LaNiO[sub 3] thin films in BCl[sub 3]∕Ar gas chemistry

Kim, Gwan-Ha, Kim, Chang-Il

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films

Рік:

2006

Мова:

english

Файл:

PDF, 389 KB

english, 2006

32

Etching Characteristics of (Na 0.5 K 0.5 )NbO 3 Thin Films in an Inductively Coupled Cl 2 /Ar Plasma

Kang, Chan Min, Kim, Gwan-Ha, Kim, Kyoung-Tae, Kim, Chang-Il

Журнал:

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.10 MB

english, 2007

33

Etch Properties of Hf-Based High- k Dielectrics Using Inductively Coupled Plasma

Kim, Gwan-Ha, Kim, Kyoung-Tae, Woo, Jong-Chang, Kim, Chang-Il

Журнал:

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 732 KB

english, 2007

34

Dielectric Properties of (Pb,Sr)TiO 3 Heterolayered Thin Films for Tunable Application

Kim, Kyoung-Tae, Woo, Jong-Chang, Kim, Chang-Il, Kim, Gwan-Ha, Lee, Sung-Gap, Lee, Cheol-In

Журнал:

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 665 KB

english, 2007